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硅片清洗機物理清洗有三種方法：①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產生劃痕和損傷。但高壓噴射會產生靜電作用，靠調節噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。硅片清洗機發展展望：伴隨著硅片的大直徑化,器件結構的超微小化...
微波等離子清洗機技術的zui大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。經濟的發展，人們的生活水平不斷提高，對消費品的質量要求也越來越高，等離子技術隨之逐步進入生活消費品生產行業中；另外，科技的不斷發展，各種技術問題的不斷提出，新材料的不斷涌現，越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性，并投入大量資金進行技術攻關，等離...
光學鍍膜系統在這個階段里要設計擬定出光學系統原理圖，確定基本光學特性，使滿足給定的技術要求，即確定放大倍率或焦距、線視場或角視視場、數值孔徑或相對孔徑、共軛距、后工作距離光闌位置和外形尺寸等。因此，常把這個階段稱為外形尺寸計算。一般都按理想光學系統的理論和計算公式進行外形尺寸計算。在計算時一定要考慮機械結構和電氣系統，以防止在機構結構上無法實現。每項性能的確定一定要合理，過高要求會使設計結果復雜造成浪費，過低要求會使設計不符合要求，因此這一步驟慎重行事。無論是無機材料還是有機...
隨著NANO-MASTER*技術的ICP源的深入應用，對于大面積的基片提供均勻高品質的薄膜生長得以實現。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展，這給顯示和照明等領域帶來好消息。此外，NANO-MASTER同時具備粉末處理能力的擴展。這樣，NANO-MASTER系統已經可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進行原子級生長。在應用選擇方面，我們支持熱ALD和PEALD系統的單獨應用，同時也支持ALE/ALD雙系統、IBE/ALD雙系統、ALD...
微波等離子清洗機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，微波等離子清洗機發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微...
今年7月，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設備是Nano-Master極富特色的雙系統設備，一套設備中實現反應離子刻蝕工藝，同時具備等離子增強化學氣相沉積的工藝能力，既避免客戶擔心的交叉污染問題，又為實驗室節省了寶貴的空間和預算，是大學院校和科研機構的熱門選擇。NANO-MASTER(那諾-馬斯特)PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到zui大可達12”直徑的基片上,可以通過不同配置實現高速沉積，或控制氮化物薄膜應力，或支持CNT和石...
八月初，深圳先進院磁控濺射NSC-3500安裝條件已具備，NANO-MASTER的工程師們為深圳先進院安裝調試實施。本套NSC-3500是帶機械手臂的全自動控制型號，標準配置帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能，zui大到6"旋轉平臺，zui大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內可以達到10-6Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。NSC-3500帶有14"立方形不銹鋼腔...
微波等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質：處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在...
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